半導体/電池製造システム

レーザヒータ

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レーザ光をガラス越しに対象物に照射することで加熱を行います。

方式としては、ツール材を介在して加熱する員ダイレクト方式とチップ等の部材に直接照射するダイレクト方式があります。

従来のパルスヒータなどと比べ、高速昇温、高速冷却が可能です。また、ヘッドの熱膨張がほとんどなく、高さコントロールなどが容易に行うことができます。

レーザは複数のファイバで構成されているので、照射エリアを選択することで１チップ内を部分的に加熱することが可能です。